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真空镀膜沉积靶原厂进口批发上海销售进口韩国ITO靶材磁控溅射镀膜ITO靶材90:10wt%

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供应商：振卡（上海）实业发展有限公司
联系姓名：陈方波
电话号码：13564135680
经营模式：生产厂家
主营产品：溅射靶材, 铱铼合金靶, 铂电阻靶材, MEMS传感器, 金锡合金80:20, 贵金属合金靶材, IGZO靶材, 蒸发镀膜颗粒, 日本ITO靶材, 陶瓷靶材, 银靶, 钯靶, 钌靶, 铱靶, 铂靶, 铑靶, 锇靶, 黄金靶材, 贵金属靶材,
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年剩余加工能力 :	50000	年加工能力 :	100000
品牌 :	Zenkaan	加工周期 :	4-7天
规格 :	圆片、方形、板材、颗粒	打样周期 :	4-7天
电镀类型 :	镀锡加工	工件材质 :	氧化因锡

产品详情

本真空镀膜加工类产品：真空镀膜沉积靶原厂进口批发上海销售进口韩国ITO靶材磁控溅射镀膜ITO靶材90:10wt%，由供应商振卡（上海）实业发展有限公司供应，详细信息如下：

ITO靶材通过磁控溅射制备ITO薄膜，广泛应用于酞阳能、LCD、TP,TFT液晶市场等领域

烧结法是世界上主流的ITO靶材生产方式，

常压烧结是当前日本ITO靶材烧结的主流技术

采用烧结法生产ITO靶材的公司有许多，高端TFT-LCD用ITO靶材均来自日本的东曹、日立、住友、日本能源、三井,日矿金属，韩国三星康宁等公司

ITO靶一般主要性能及参数

成份: In2O3:SnO2=90/10(wt) 其他比例以客户要求为准

相对密度: 99.5（理论密度7.15g/cm3)

纯度: 99.99

尺寸规格:依据客户要求为准

高性能ITO靶材主要技术特性有:

1)纯度:其纯度达到99.99以上,主要杂质元素Cu、Fe、Pb、Si、Ni分别小于10 ppm,

总杂质含量不超过100 ppm。

2)相对密度:相对密度要求在99.5以上,密度均匀度偏差

0.15。

3)组织均匀性:SnO2固熔到In2O3中形成单一的In2O3相,

Sn在靶中均匀分布,晶粒细微均匀。

4)电阻率小于0.14mΩ·㎝。

5)抗折强度:

120MPa。

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