全新立式全谱光谱采用国际标准的设计和制造工艺技术,采用全数字技术,替代庞大的光电倍增管(PMT)模拟技术,与国际光谱仪技术同步,采用真空光学室设计及全数字激发光源、 的CCD检测器,高速数据读出系统,使仪器具有极高的性能、极低的检出线、长期的稳定性和重复性。适用于金属制造业、加工业及金属冶炼业用于质量监控、材料牌号识别、材料研究和开发的主要设备之一。
主要技术参数:光学系统:帕型)-龙格罗兰圆全谱真空型光学系统;
波长范围:170nm580nm
焦距:400mm
探测器:高性能CCD阵列
光源类型:数字光源,高能预燃技术(HEPS)
放电频率:100-1000Hz
放电电流: 400A
工作电源:220VAC 50/60Hz
仪器尺寸:720860500
仪器重量:约100kg(不含真空系统)
检测时间:依据样品类型而定,一般25S左右
电极:钨材喷射电
光学恒温:34± 0.3
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